按照发展轨迹，最早的光刻机光源即为汞灯产生的紫外光源UV之后行业领域内采用准分子激光的深紫外光源DUV，将波长进一步缩小到ArF的193 nm由于遇到了技术发展障碍，ArF加浸入技术成为主流由于157 nm波长的光线不。

光刻机是集成电路产业的一颗最璀璨的明珠，闪烁着高难问的光辉，如同航空产业的发动机一样，由于技术门槛非常之高，一般人拱不动的，日本由于收购德国亚深，掌握了深紫外光源技术和物镜技术，其尼康和佳能也能做22纳的水平。

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度曝光方式分为接触接近式投影式和直写式曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度。