1、同样使用荷兰的光科技，有的电台可以制造三毫米，有的不可以，这就是型号问题。

2、3纳米，是指节点技术的关键尺寸，而这个尺寸不是芯片能用肉眼看到的几何尺寸一般是毫米到厘米级别，而一般是指栅极长度gate length这个长度是又掩膜版上定义好的尺寸决定的，而在生产过程中决定性的由光刻机来实现。

3、2光刻机 我国的光刻机达到了14纳米的量产，有的国家4纳米3纳米甚至2纳米都要开始量产了，我们还是有一定的差距呀！ 3光刻胶 目前国外的光刻胶阻抗可以做到10^15，国内基本上停留在10^10还 有光刻机冷却剂光刻机浸液系。

4、目前全世界光刻机最好的也只有荷兰的ASML公司能够制造出来，虽然我国的光刻机精度不是很高，但却是一个必须存在的东西如果按照目前的科技水平来看，90nm的精度并不能做什么，就算是用90nm光刻机制作出来的芯片在一些性能。

5、用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备二工作原理 在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源。

6、因为这个制作起来非常的困难，而且制作起来的时间也是非常的长。

7、根据网上资料显示，一台光刻机一天大约可以有效制造600块左右，一年就可以制造差不多219万块芯片光刻机为什么会如此的重要目前，无论是手机芯片汽车芯片还是其他领域，包括军事航空航天等应用，芯片都离不开光刻现。

8、芯片工艺制程就是指硅基芯片中删极的宽度，删极宽度=工艺制程的数值，其宽度越窄功耗越低而3纳米是其中的一个制程，一般来说14纳米以下的芯片只能用高端euv光刻机来制造，而在22纳米左右是高端和中端光刻机的分水岭。

9、一台光刻机可以制造很少的芯片相信大多数人都清楚，光刻机的用途是刻字光刻机是生产手机芯片的重要机器之一目前，只有少数国家可以生产光刻机，只有荷兰ASML公司可以生产高精度光刻机，而且荷兰ASML公司垄断了全球高精度。