1、目前，荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场，主要是EUV光刻机，造价极高，暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌，每年稳定向大客户供货光刻机的分类 光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半自动全自动。

2、目前在全世界范围内，具备生产这类高端光刻机的厂商只有一家，就是荷兰巨头ASML公司，这家公司生产的光刻机，被外界称作全球科技企业的集体智慧，因为单独靠一家公司是根本无法做到的据了解，一台EUV光刻机的重量大概在180。

3、一如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3。

4、根据专家推测，中国现在光刻机技术和世界顶级水平依然有20年的差距，可以说差距还是比较大的，但是国家已经启动相关的研究工作，相信在所有人的努力下，终有一天会打破技术封锁研发光刻机有哪几点难度第一思想难度在。

5、因为这个制作起来非常的困难，而且制作起来的时间也是非常的长。

6、duv和euv区别如下目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机DUV是深紫外线Deep Ultraviolet Lithography，EUV是极深紫外线Extreme Ultraviolet Lithography前者采用极紫外光刻技术，后者采用深紫外光刻技术EUV已。

7、然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的芯片即将上市不过根据相关信息，预计中国首款采用28nm工艺的国产浸没式光刻机即将交付虽然国产光刻机和ASML的EUV光刻机差距。

8、极紫外光刻是一种使用极紫外波长的下一代光刻技术，其波长为135纳米，预计将于2020年得到广泛应用几乎所有的光学材料对135nm波长的极紫外光都有很强的吸收，因此，EUV光刻机的光学系统只有使用反光镜。