是氪Kr气体和氟的简写KrF光刻机是指使用波长248nm，由氪Kr气体和氟F气体产生的激光的半导体光刻机，尼康和佳能在光刻机领域也有着深厚的IP布局光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是。

开玩笑表示搞笑的意思光刻机所发出的激光穿透力极强，根本不能用手搓，所以手搓光刻机是开玩笑表示搞笑的意思光刻机又名掩膜对准曝光机，是制造芯片的核心装备，通过采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过。

纳米技术根据查询百度百科显示，光刻机是用来生产半导体芯片必不可少的设备，光刻机的纳米指的是纳米技术，该技术用于制造芯片通过采用光束曝光方式将芯片电路图精确地投射到硅片表面，以此制造出微米甚至纳米级别的芯片。

回购此设备是提高科技创新能力的关键一步光刻机是高端技术设备，具有重要的科研和生产价值，所以此设备的回购是提高科技创新能力的关键一步，随着大陆半导体产业的发展，通过回购光刻机设备，大陆可以加大研发投入，提高生产效率。

光刻机cd15nm是指一个硬件的指标，现在芯片都是7nm工艺。

光刻纳米机中的”纳米“指的是产品线条宽度工艺尺寸即光刻机加工的芯片线路尺寸可以达到纳米量级，即10^19m，如CPU中的 5nm工艺7nm工艺和14nm工艺而光的频率一般在几百纳米，如可见光的波长范围一般在400。

差不多就是有个瓦森纳协定，阻止所有西方国家把最先级的技术和设备卖给中国，让中国只能使用二流技术的协定这样中国就产不了太精密的芯片，不过这都是时间问题吧，外国人产得出我们也产的出只是要耗费些时间。

如果真的走到了那一步，大陆市场的所有光刻机设备都进入回购阶段，对于ASML来说，后果不是其所能承受的光刻机回购会对相关方造成什么影响 一方面来说，这将会是一大笔支出2020年的时候，ASML向中国市场的出货量就达到。