光刻机是是制造芯片的核心装备光刻机也可以称为掩模对准曝光机曝光系统或光刻系统等它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影；通常以一个制程所需要经过掩膜数量来表示这个制程的难易根据曝光方式不同，光刻可分为接触式接近式和投影式根据光刻面数的不同，有单面对准光刻和双面对准光刻根据光刻胶类型不同，有薄胶光刻和厚胶光刻而光刻；光刻机的种类有如下1接触式曝光机 接触式曝光机指的是掩膜板直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当的设备根据施加力量的方式不同，接触式曝光又分为软接触硬接触和真空接触2接近式。

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻；对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度曝光方式分为接触接近式投影式和直写式曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等以上内容参考百度百科光刻机。

不会20世纪50年代，美国已经有了自己的接触式光刻机，一年后，又推出了自动步进式光刻机同样，日本的光刻机也不远我国1978年在gk3的基础上发展了gk4，自动化程度有所提高，但仍没有摆脱接触式光刻机粗略地；对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度曝光方式分为接触接近式投影式和直写式曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度。

3 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度4 曝光方式分为接触接近式投影式和直写式5 曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等以上就是给各位带来的关于光刻机性能指标是；它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几。