在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为曝光显影去感光胶，最后应用于光蚀刻。

另一方面是我国没有高端的光刻机在芯片更新换代的过程中，离不开光刻机，因为间隙的不断缩小，就不得不需要提高光刻机的精度，作为芯片雕刻电路图案的核心设备，光刻规的精度，可以说直接决定了芯片制程的精度但从目前。

而国产的28纳米光刻机完全属于中国制造，不仅出货将不会受到限制，国内的所有厂商都能购买使用，而且光刻机是我们中国制造，使用时我们也会更放心如今，即将下线的28纳米光刻机，以及已实现量产和领先的国产蚀刻机等设备。

1原因一荷兰的ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦，独立出来的一个公 司，背后肯定有相关的人员，经济上的资助2原因二ASML的光刻机中超过90%的零件都是向外采购的，这与他原来的对手。

光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备集团股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。