不过光刻机技术咱们国家也正在研发之中，并且现在来说也是取得了一些成就，就目前的研发速度和状态来看，我们也应该相信即便是外部的技术封锁，靠着我们自己的努力也是能够攻克这道难关。

所以我认为，华为接下来自己制造光刻机的可能性不高，因为这个难度太大了但是华为会加强与国内专业芯片供应链的合作，比如与中芯国际上海微电子合作，派驻研发人员一起来攻克光刻机的难关相信在国内企业的共同努力下。

摘要光刻机是一种高精密芯片制造设备，如果想要自主生产芯片，光刻机是必要的那么光刻机是谁发明的光刻机是法国人Nicephoreniepce尼埃普斯发明的，现已成为半导体生产制造的主要生产设备光刻机制造需要哪些技术下面来。

光刻机的主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，在某种程度上来说，光刻工艺的决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能与功耗，越高端的芯片，所需要的光刻工艺也越先进 “工欲善其事，必先利其器”，光刻机就是芯片。