7nm根据查询哔哩哔哩显示，国内对高科技的人力和财力投资大大增加，国产光刻机与荷兰ASML的差距也变得越来越小，哈工大的频频突破，让中国自研京华激光的光刻机目标直指7nm工艺所以京华激光的光刻机是7nm。

当然有可能了，但是如果华为将精力用于研制光刻机，那么势必拖累其他环节的研发生产再者光刻机并不是一朝一夕可以产出的，光刻机是重资金重技术的行业，没有几十年的功力，要追赶上ASML阿斯麦是有一定困难的但是也有。

根据媒体在之前的报道我们得知，由武汉光电国家研究中心的甘棕松团队，现在已经成功的研制出9nm工艺的光刻机这次研制出来的光刻机技术与其他国家的是完全不同的，国产的光刻机是利用二束激光在自研的光刻机上突破了光束衍射。

中国半导体产业链之所以不能生产高端芯片，主要原因是国内市场在制造光刻机方面的技术落后于人这项关键技术被欧美等科技巨头长期垄断，而自从美国擅自修改了芯片规则后，华为等中企的自研芯片之路可谓是“举步维艰”尽管华为。

来源于上海微电子上海微电子自研的封装光刻机完成交付，由青岛新核芯科技接手，这台封装光刻机的落地意义重大，对青岛发展集成电路封装测试都有很大的帮助虽然这台光刻机只有65nm，但用在半导体封装领域已经是绰绰有余。

我国的上海微电子有限公司研发和生产光刻机，但是差距有点儿大，华为目前没有研制自己的光刻机下文具体说一说 1我国的光刻机 ASML的高端光刻机为7nm光刻机，并且7nm EUV光刻机只有ASML可以生产，据说ASML已经准备生产5nm的光刻。