1、截止2023年11月，该设备销量挺好的在激光直写设备销量中，德国Heidelberg占比26%，占比最高，呈现出压倒性优势，比国内设备厂商苏大维格在此类设备中所占据份额高出许多光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，它；90 纳米制程工艺的芯片到底有多大，能做什么样的手机想想，台积电在大概在2004年，2005年的时候它的90纳米制程工艺技术才完全成熟起来，其实上述这个标题表述不准确，不是90纳米的光刻机，应该说90纳米制程工艺，纳米就是比；我们国内确实是既难买又难造高端的光刻机，包括7纳米的和5纳米的，当前就是在这最后的一个端上陷入了现实的两难处境，短期内不可能脱离，是个长期性的现实 只要成功研发出了高端的制造技术，难造就会变成易造了只要即将成功制造出高端。

2、好京东光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造微机电光电二极体大规模集成电路的关键设备模板与图样大小一致的contactaligner，曝光时模板紧贴晶圆非常好；发动机更不好做，光刻机只要研究出来就好了不需要大量试验数据，而发动机难的不是发动机设计的样子，而是材质的好坏和加工工艺，这都需要大量的时间和和数据参数来看其稳定性这个又测试不出来要化大量时间总结就是同一。

3、因为光刻机制造工艺不存在科学基础理论的限制，全部都是工程问题，而工程问题就是资源和时间投入够了，一定搞得出来连航发我们都快搞出来了，光刻机为什么搞不出来反过来说，过去我们造不出来，原因不是我们不能造，根源；”2022年1月，“中国不太可能独立研制出顶级光刻技术，但也不是说绝对不行因为我知道物理定律在中国和这里是一样的，永远不要说永远，他们一定会尝试的”2023年4月初，“中国自研光刻机是破坏全球芯片产业链”2023。

4、我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法；设备不同，用途不一样1euv光刻机是使用极紫外光谱EUV的一种光刻机，euv光源样机则是用来测试和开发EUV光源的设备2euv光源样机是制造芯片的设备，而euv光刻机是为了提供光源而存在的设备。

5、不一样，相差太大了，光刻是半导体集成电路制作工艺中的关键的一步，而光刻机正是用来光刻的，刻录机是电脑中用来刻录光盘的。