1、就知道为什么华为不可能研制自己的光刻机了！你可能会觉得ASML光刻机厉害，不就是技术厉害吗？咱们在技术上赶上它不就完了吗？实际上，这你就错了可以说，ASML的光刻机的很多设备是来自世界各地，比如制造光源的设备来自美国公司德国；例如光刻机较为重要的镜头，ASML公司是从德国的蔡司采购，基本上由蔡司祖传匠人独家打磨，极少能够到达这一标准除此之外，光刻机对于光源要求同样较高，ASML公司光刻机的光源由美国CYMER公司独家提供，后来为了方便直接收购了；7nm的极紫外线光刻机，分为13个系统，3万个分件，90%的关键设备来自多个国家，有德国的光学设备和超精密机械美国的计量设备和光源设备等因此，如果美国强行将顶级光刻机厂家ASML搬去美国本土，极可能走日本尼康衰败的。

2、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源光刻系统光刻胶和工艺等各方面的限制光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是；并使用比ASML公司所生产的EUV光刻机使用的极紫外光源波长更短的X射线来研发光刻机可以说日俄所研发的光刻机技术都是要比ASML公司的光刻机技术更加先进的另外，还有台积电三星苹果等芯片厂家也在加快对封装工艺技术；世界上最顶端的光刻机来自荷兰阿斯麦的极紫外光光刻设备，差不多12亿美元一台，还垄断着世界高端光刻机市场，像现在最先进制程的7纳米，有的国家有钱也是买不到的那么为什么这种世界高科技光刻机公司不在美国，而在；前面提到的荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer；这个站在产业链顶端的大佬，在美国面前也是小弟一家荷兰企业，为什么要听美国的上世纪80年代，在光刻机市场，日本尼康一家独大彼时，阿斯麦的市场份额不足10%但不管是尼康还是阿阿斯麦，光刻机的光源波长都卡在193nm；能造光刻机的国家有荷兰日本美国韩国中国1荷兰 荷兰是高端光刻机生产的领导者，该国ASML是全球最大的光刻机制造商，其高端市场份额占比超过80%ASML的EUV光刻机是当今最先进的光刻机之一，主要应用于全；光刻机产业链主要包括上游核心组件及配套设备中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节光刻机技术极为复杂，在所有半导体制造设备中技术含量最高5光刻机国产化 在华为被美国芯片限制之后，光刻机国产化为热门话题然；荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个135。

3、荷兰ASML目前是世界上唯一的EUV光刻机供应商，每台EUV光刻机的价格都超过1亿美元，大功率EUV光源是EUV光刻机的核心基础目前ASML使用高能脉冲激光轰击液态锡靶以形成等离子体，然后产生波长为135纳米的EUV光源，功率约为；世界最高端的光刻机来自荷兰目前世界上最好的光刻机不是来自美国，韩国，英国日本等这些芯片强国，而是来自荷兰的阿斯麦尔阿斯麦尔因为押宝台积电林本坚提出的浸润式显影技术，让光源技术突破极限，这个坚持给阿斯麦尔带来了。

4、是90纳米查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息；阿斯麦尔的优势就在于，它牢牢掌控了整个产业链，光源来自美国，镜片来自德国，一台光刻机涉及多个 科技 强国的10多家顶级公司之所以是荷兰的阿斯麦尔能够做到这件事，而不是日本，德国，美国的公司，这个是有 历史 原因的；主要性能指标 光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产效率等分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式光刻的分辨率受受光源衍射的限制。

5、虽然ASML是一家荷兰公司，但它的背后却有着欧盟及美国的力量，很多关键技术都是由美国及欧盟国家提供的一台顶尖EUV光刻机的零部件中，美国光源占27%荷兰腔体和英国真空占32%日本材料占27%德国光学系统占14%，它是；目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机光刻机是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量。