1、5纳米5nm光刻机的原意应该是可以实现5纳米制程的光刻机，是EUV极紫外线光刻机EUV使用了135纳米的极紫外线激光源，比193纳米深紫外线光源的DUV光刻机能力更强纳米符号nm，即为毫微米，是长度度量单位1纳。

2、23 控制系统 对于EUV光刻机来说，控制系统非常重要这个系统可以保证光学元件和光刻模板之间的对齐，从而实现纳米级别的制造精度控制系统还需要定期维护，以确保设备的稳定性和一致性3 5nm芯片生产流程 5nm芯片制造过。

3、能造光刻机的国家有荷兰日本美国韩国中国1荷兰 荷兰是高端光刻机生产的领导者，该国ASML是全球最大的光刻机制造商，其高端市场份额占比超过80%ASML的EUV光刻机是当今最先进的光刻机之一，主要应用于全。

4、因为芯片制造是有技术瓶颈的，荷兰ASML公司就说了，他们制造出来最先进的135纳米波长的极紫外光光刻机，制造出来的晶体管，栅极的极限长度就是15纳米即使后面光源的波长再短，但是晶体管会漏电，一旦漏电就会短路，芯片。

5、不需要EUV光刻机，纳米压印技术可以实现5nm芯片最近的新闻报道称中国芯片制造商成功开发了一项新技术，即NIL纳米压印技术这项技术被认为能够承担起EUV光刻机的工作，并且具有更低的生产成本NILNanoimprint Lithography。

6、EUVExtreme Ultraviolet光刻机是一种用于制造高端芯片的先进设备与传统光刻机不同的是，EUV光刻机使用的是极紫外光源，具有更短的波长和更高的分辨率，能够制造尺寸更小的芯片，如5nm芯片2 EUV光刻技术的优点 与。

7、投影式光刻2原理接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工投影式光刻光刻因其高效率无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术。

8、五纳米芯片不需要光刻机是真的佳能公司宣布通过NIL纳米压印技术，将在2025年实现制造5nm芯片而不需要EUV光刻机的使用NIL纳米压印技术类似于印刷技术，通过将电路图案刻录到专用的quot章子quot上，然后将quot章子quot压印到硅晶圆上。

9、不是根据查询中国新闻官网显示，截至2023年9月26日，新闻联播播放5nm光刻机没有被任何可靠信息证实，不是真的。

10、如果美国不批，基本上就没可能了即便台积电没有使用美国的技术，也不可能第二台积电不可能跳过美国的原因是，荷兰的光刻机同样的，中芯国际就差光刻机就有能力生产7nm的芯片，在7nm的芯片上再在一年时间年达到5nm。

11、5nm芯片无需光刻机中国科技公司已申请制造专利9月15日，一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布该发明涉及芯片设计及制造这项发明的亮点在于，不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻。

12、意思就是可以制造5nm芯片的机器光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的5nm是指。

13、光刻机是非常复杂的机械，目前最厉害的光刻机生产商就是荷兰的ASML，他们现在已经能够生产刻出5nm线路的光刻机了光刻机的分类 光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半自动全自动手动指的是对准的调节方式。

14、很多时候我们会看到一些消息称我国光刻机突破5nm3nm实现超车，其实不然，这种说法是错误的，完全就是混淆视听，为何这么说，因为除了光刻机还有一个芯片制造环节中的重要设备，那就是刻蚀机光刻机学名又称为掩模对准。

15、从5nm一下子掉到180nm，这个落差让很多人都接受不了但需要知道的是，180nm才是国产光刻机技术的真实水平，就算不愿意承认，也必须得面对如果连自身的不足之处都无法面对，那么何谈攻克技术难题何谈突破毫无疑问。