根据台媒报道， 台积电将联手日本芯片产业共同冲刺2nm芯片 日本虽然没有先进的晶圆代工厂，但是日本在先进工艺的上游却占有很重要的位置以国内用户最为熟悉的EUV光刻机为例，众所周知，全球只有ASML一家公司拥有生产；目前，全球范围内制造芯片所采取的技术以光刻为主，想要 将线路缩小至2nm就必须将轰击晶圆靶材的光束精度控制在2nm ，而要实现这一技术需要极强的技术实力 目前，全球范围内还没有2nm的光刻机 ，所以想要制造出2nm芯片。

就在不久前，我国就发表文章，我国可以制造出2nm的芯片，而当下就算是全世界最有的荷兰ASML公司都还是在对2nm光刻机处在研发阶段这样的一个重大突破，无疑是我们的一个喜欢，可是好景不长，问题又来了，我们还是不能；5纳米根据查询光明网显示，截止时间2023年10月2日，世界光刻机釆用finfet工艺，能做到5nm以下光刻机又叫掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备；美日突破3nm和2nm芯片 全球第一大芯片制造厂商，台积电，表示已经攻破3nm芯片难关，预计在2022年年末进行量产而三星还处于优化5nm技术层面，中芯国际还在苦苦等待自己的光刻机日军进攻2nm芯片，由于日本在这方面的技术也很。

与之前的光刻机相比，ASML新一代光刻机的分辨率将会提升70%左右，可以进一步提升光刻机的精度，毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的不过新一代EUV光刻机还有点早，至少到2022年才能出货，大规模出货要到。

2发展历程 光刻机发展至今，已经历了5代产品的迭代在1985年之前，第一代光刻机光源以436nm的gline汞灯光源为主，只适用于5μm以上制程之后出现了365nm的iline汞灯光源的第二代光刻机，制程精度来到了350500。

是国际公认的二纳米芯片制作领域关键技术芯片未来发展离不开高端光刻机 如今我国虽然能够独立将它研制出来，意味着我国在芯片领域生产中站于领先地位，但是当相关专家在将研究成果进行总结，并且在杂志上发表申请专利之后，中科院。

2mm芯片估计在2024年开始商用所谓的新型垂直纳米环栅晶体管只是说明在制作芯片的材料和设计上已经突破了，但是如果想要生产出2nm制程的芯片，我们需要能够达到2nm制程分辨率的光刻机和蚀刻机，只有这样才能够让电路从设计从图纸；此外，半导体生产制造的核心设备光刻机，也被一家荷兰企业垄断，一些企业若想获得光刻机需要付高昂的费用再次，缺乏领军企业，让中国芯片行业缺乏世界话语权研发芯片是一个高投入慢产出的行业，需要10年甚至更长的周期虽然。