1、国产芯片正飞速发展中国芯片不断加速进步，去年华为发布了首款5nm麒麟9000，今年中芯国际即将在上海建设国内第一座FinFET工艺生产线还有清华大学也在高端EUV光刻机光源取得进步种种迹象都表明，国产芯片正飞速发展本文。

2、这意味着ASML在我们这里申请的光刻专利极有可能会被老美利用，从而卡住国产光刻机的脖子要知道，“专利”这个词正是美通信巨头高通所发明的，有专利在手，高通常年都在向下游客户收取着大量的专利费，而且还多次使用拒绝；但国内市场上，其实已经有7nm光刻机在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机海力士也是ASML的股东之一第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备；为7纳米芯片生产线供应刻蚀机中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额中科院SP超分辨光刻机 提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国。

3、不要老是盯着光刻机，国产芯和美国芯的真正差距还是在专利和标准上！ 许多人认为中国的芯片制造工艺不行，的确目前国产的光刻机只能达到90nm的精确度，国内最好的芯片代工厂中芯国际的工艺水平也只在28nm14nm之间但是芯片厂商完全可以。

4、最令美国担忧的是，光子芯片无需先进的EUV光刻机，甚至可以通过国产的90纳米级光刻机生产出性能媲美5纳米硅基芯片的光子芯片，这将彻底改变了中国芯片产业受制于光刻机技术的现状，为中国发展先进芯片提供了可行的路径光子；低端和中端光刻机的封锁已经被解除了两道封锁线都已经荡然无存了，美国和荷兰像是自动解除提前解除封锁的，近年来让ASML连DUV中端光刻机都卖给我们国内企业那么多台了，是在我国光刻机企业还没有宣布国产中端光刻机。

5、芯片制造的技术经验工艺以及人才是一个系统性的工程，台积电也不是一天建成的，有了光刻机也不代表我们就能造出最顶尖的芯片 再退一步讲，如果一流光刻机和刻蚀机都国产了，台积电也变成了中国企业，中国的芯片业就。