1、因为光刻机制造工艺不存在科学基础理论的限制，全部都是工程问题，而工程问题就是资源和时间投入够了，一定搞得出来连航发我们都快搞出来了，光刻机为什么搞不出来反过来说，过去我们造不出来，原因不是我们不能造，根源；上海微电子装备股份有限公司SMEE通过积极研发已实现 90nm 节点光刻机的量产，使用ArF光源，可满足90nm及以上制程国产光刻机正向下一个技术节点寻求突破4产业链 光刻机产业链主要包括上游核心组件及配套设备中游光；从5nm一下子掉到180nm，这个落差让很多人都接受不了但需要知道的是，180nm才是国产光刻机技术的真实水平，就算不愿意承认，也必须得面对如果连自身的不足之处都无法面对，那么何谈攻克技术难题何谈突破毫无疑问；或许有的人会说，几十年前，我国原子弹都能造出来，现在造一个EUV光刻机有什么难的事实上，我们短时间内还真的造不出来EUV光刻机，尽管中科院清华大学等科研机构突破了很多EUV技术EUV光刻机不仅需要大量非常高尖端；中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产，再过一两年一定能用于国产芯片的生产，而且，按中芯国际梁孟松在2020；紫光集团存储芯突破合肥长鑫这类存储芯片厂商都获得长足的技术进步，这里面和国家大基金的基本投入一样分不开目前，国产刻蚀机已成功打入全球芯片先进制程产业链，但国内外光刻机的技术鸿沟仍然存在，国外领先光刻机技术已。

2、在光刻机技术上，清华大学的唐传祥教授，也在“稳态微聚束”的新型粒子加速光源取得了突破 10月，路新春教授在芯片上有了重大突破， 国内首台12英寸超精密晶圆减薄机正式落地，并运到中国的一家集成电路制造公司 要知道，国内的晶圆减薄。

3、华为不断在量子领域探索，想要找到芯片发展的新方向但是量子芯片的发展还比较缓慢，还没有大量的普及，目前距离商用还需要一段不少路要走或许将来能通过量子芯片打破光刻机的依赖，但是现在一切还未知探索新路目前市场。