成都兴林真空设备有限公司主营业务是光刻机生产加工，光刻机主要用途来自以下场景1光刻机用于大学研发实验室设备2工厂用于做空空导弹跟踪器发光二极管传感器手机芯片霍尔元件 A发光二极管用于在十字；摘要光刻机是制造芯片的关键设备，是世界上最复杂的精密设备之一，也是工时和成本占比最高的设备，更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶，目前世界上只有3个国家有能力制造出光刻机，我国就是其中一个那么，中国光刻机现在。

中国最好的光刻机上市公司

国内光刻机技术日渐成熟，并且在半导体光电子等领域得到了广泛应用在国内，ASML等工厂先进的外国光刻机还未被完全引进，因此最精密的国产光刻机就显得非常重要目前，最精密的国产光刻机可以达到8纳米，比上一代光刻机。

在光刻机专业领域内，国内一流的大学包括清华大学上海交通大学中国科学技术大学南京大学等这些大学在光刻机技术研究方面有着较深入的探索和成果，同时也举办了多次光刻机及半导体相关的学术会议原因是这些大学的光刻。

1981年，中国科学院半导体所研制成功JK1型半自动接近式光刻机1982年，科学院109厂的KHA751光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年1985年，机电部45所研制出。

截止2022年6月，世界上最先进的光刻机已经能够加工13 纳米线条而我们人类的头发丝直径大约是 50~70微米，也就是说，光刻可以刻画出只有头发丝直径15000的线条荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光。

国内最好的光刻机厂家

1现在国内的光刻机能达到多少纳米的技术官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的。

而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外我们中国现如今可以量产的光。