是90纳米查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息。

这些行业的巨量需求，要求国产90nm光刻机，必须存在唯有这样，才能更好的满足，我国低端芯片用户的需求，不用跑到外国花费更多的钱去进口二对于国内芯片产业链而言，精度90nm的国产光刻机必须存在尽管国内的芯片制造。

上海微电子装备股份有限公司SMEE通过积极研发已实现 90nm 节点光刻机的量产，使用ArF光源，可满足90nm及以上制程国产光刻机正向下一个技术节点寻求突破4产业链 光刻机产业链主要包括上游核心组件及配套设备中游光。

如果将芯片制程工艺比作金字塔，塔尖是10nm及以上工艺，14nm及90nm就是塔腰，90nm以下就是塔基说到这里，国产90nm光刻机的战略意义就展现出来了虽然它是低端光刻机，但打破西方技术封锁，可以保证绝大多数国产芯片制造厂。