好根据查询东方财富网显示1SMEE向昆山同兴达交付了2台同兴达光刻机，1800万元的单价在光刻机领域算十分亲民的2该设备为金凸块封测光刻机，跟铜锡凸块相比，金凸块封测技术以黄金为凸块材料，优势更大。

上海一家生产光刻机的公司实质是军方的不能说太多，你谅解下参考资料老表在此处工作。

能制造高端光刻机的只有荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机高端光刻机堪称现代光学工业之。

是的SMEE是一家半导体装备研发商，公司产品主要包括光刻机系列晶圆缺陷自动检测设备LED功率器件激光类设备检测类设备光刻类设备等，可以应用于机器人LED等相关领域更多同行分析，上企知道了解。

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment SystemPhotolithography光刻 意思是用光来制作一个图形工艺在硅片表面匀胶，然后将掩模版。

以光刻机为代表的产品主要应用于四个领域芯片制造芯片先进封装LED制造新一代显示器制造 即使是同一个光刻机，前台产业化应用难度也非常大，但由于后置先进封装在光刻机上的应用已经广泛，可以率先进入，SMEE抓住这。

中国光刻机的现状说到国内光刻机的现状不得不提到上海微电子SMEE，目前仅能够实现90nm的工艺制成而目前主流的7nm芯片均是由ASML公司EUV光刻机生产可见，在光刻机上我们还是有相当大的差距的近期有报道显示，武汉。

光刻机是芯片制造的关键设备，不光华为在研发，像SMEE合肥芯硕半导体有限公司先腾光电 科技 有限公司无锡影速半导体 科技 有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果，这些公式只是在低端市场占比的，高端的就是中科院光电技术研究。

对光刻机的精度要求越来越高，半导体公司很难自己制造，于是出现专业的光刻机生产商光刻机市场经过四五十年的竞争洗牌，到现在玩家主要剩下荷兰ASML日本尼康佳能，以及中国的上海微电子装备集团股份有限公司SMEE。