光刻机是一种可以制造芯片的机器光刻机是一种在半导体制造过程中使用的高精度设备，用于将光敏剂覆盖在硅片或其他基板上，并通过光源和光学系统投射光线形成图案，从而进行微米级或纳米级的图案转移光刻技术是半导体工艺中。

3纳米，是指节点技术的关键尺寸，而这个尺寸不是芯片能用肉眼看到的几何尺寸一般是毫米到厘米级别，而一般是指栅极长度gate length这个长度是又掩膜版上定义好的尺寸决定的，而在生产过程中决定性的由光刻机来实现。