这个流体层的作用是将光路中的空气替换成流体，从而使得光线能够更加准确地传播当光线经过流体层时，它会受到流体的影响，这样就可以使得光刻机投影到硅片上的最小图像变得更小总的来说，使用流体层可以帮助光刻机投影出。

可以降低光源波长离轴照明光学临近修正方法降低光刻机投影最小图像的尺寸降低光源波长，从436纳米，到365，再降低就到了极紫外准分子激光器的范围咯，然后是248，然后是目前工业界占绝对统治地位的ArF193nm离轴照明。

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化东部基地等多个国家级基地公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发生产。

降低光刻机投影最小图片的尺寸是3×2，也就是两寸光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影。

方法包括1使用高倍镜头可以将小图像放大，从而降低最小图像尺寸2增加光源强度可以使图像更清晰，从而降低最小图像尺寸3通过降低光源波长离轴照明光学临近修正方法降低光刻机投影最小图像的尺寸。

降低光刻机投影最小尺寸采用缩短曝光光源波长和增大投影物镜数值孔径两种方法1通过物镜组来实现，通过纯水把波长降低到134纳米2通过物镜组就可达到90纳米65纳米45纳米28纳米22纳米这个缩小4倍大概就是2228。

光刻机是干什么用的光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种有用于生产芯片的光刻机有用于封装的光刻机还有用于LED制造领域的投影光刻机，同时用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大。

要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就不会有我们现在的手机电脑了2光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机3。

液体有很好的折射率，能够很好地改变光束的方向，使光束从几乎垂直的方向投射到图像上，充以液体后，可以降低光刻机投影最小图像的尺寸光刻机是制造芯片核心装备，利用光源发出的紫外线，将精细图投影在硅片上，再经技术。