上海微电子下一代28nm工艺节点的浸润式光刻机可以在明年完成量产交货，这意味着国产光刻机设备即将会掀起一股中国替代潮，已经取得了重大技术突破的上海微电子，未来的发展潜力无限上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区。

那么，中国光刻机现在多少纳米中国高端光刻机什么时候能研制出来一中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料。

28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

国产光刻机现状技术水平逐步提高，其中“光刻机国家重大科技专项”最具代表性国产化率逐年提高，但与国际巨头还存在一定差距。

随着上海微电子的封装光刻机进入国产厂商生产线，对于提升国产芯片自给率，降低国外芯片进口依赖有了更大的帮助因为封装光刻机也是制造集成电路和半导体器件的关键设备之一，它能够将电路图案转移到半导体材料的表面，是半导体。

首台国产光刻机是28纳米的 中国取得了一项重要的科技突破，首台国产光刻机成功交付，这是一台由中国自主研发的半导体制造设备，标志着中国在半导体领域向前迈出了坚实的一步首台国产光刻机是28纳米的，推动了国内半导体产业的快速发展。