还有3nm的制程我们也参与研制，我们是主要出资方，看看这些谁能说我们未来不是光明的中国在光刻机制造方面是单干，荷兰阿斯麦光刻机是集中了很多发达国家的技术精华，也不是荷兰一个国家所能，所以中国能自主生产90纳米的光。

面板等领域，2020年中国光刻机产量为62台，2021年国内产量为75台光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展2事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况下，我们很难获得国际市场的支持3ASML的成功是因为其技术的。

我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光。