随着全球半导体产业的不断发展和变化，光刻机市场也将持续增长而我国作为全球最大的半导体市场之一，光刻机市场需求也将持续增长在这样的大背景下，国产光刻机有望在未来几年内取得更大的突破和更广泛的应用影响光刻。

但是事实却并非如此，据后来该论文的通讯作者刘前在接受媒体采访时表示，中科院研究的5nm光刻制备技术针对的是光掩膜的生产，而不是光刻机用到的极紫外光也就是说，中科院发表论文不等同于国产光刻机技术达到了5nm水平。

摘要光刻机是光刻工艺的核心设备，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平，目前光刻机做的最好的国家就是荷兰，我国虽然也有研制光刻机的能力，但国产光刻机与国外顶尖光刻机存在的差距比较明显下面来了解下国产光。