1、ASML荷兰光刻机制造商阿斯麦传来新消息，关于新一代EUV极紫外线或者远紫外线光刻机，核心三大件已到货，分别包括物镜系统高 NA 机械投影光学器件，光源系统镜头以及新款的晶圆载物工作台目前，不清楚三大件来自哪。

2、1光刻机可以分为用于生产芯片用于封装和用于LED制造按照光源和发展前后，依次可分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV，光源的波长影光刻机的工艺光刻机可分为接触式光刻直写式光刻投影式。

3、光刻机的曝光系统最核心的部件之一是紫外光源常见光源分为可见光g线436nm 紫外光UV，i线365nm 深紫外光DUV，KrF 准分子激光248 nm， ArF 准分子激光193 nm 极紫外光EUV，10 ~ 15 nm。

4、常见光源分为紫外光UV，g线436nmi线365nm深紫外光DUV，KrF 准分子激光248 nm， ArF 准分子激光193 nm极紫外光EUV，10 ~ 15 nm对光源系统的要求a有适当的波长波长越短，可曝光的特征尺寸。

5、为了提高分辨率，光学曝光机的波长不断缩小，从436mm365mm的近紫外NUV进入到246 mm193mm的深紫外DUV246nm的KrF准分子激光，首先用于025μm的曝光，后来Nikon公司推出NSRS204B，用KrF，使用变形照明MBI。

6、按照发展轨迹，最早的光刻机光源即为汞灯产生的紫外光源UV之后行业领域内采用准分子激光的深紫外光源DUV，将波长进一步缩小到ArF的193 nm由于遇到了技术发展障碍，ArF加浸入技术成为主流由于157 nm波长的光线不。

7、asml的意思是1荷兰ASML公司 全称 Advanced Semiconductor Material Lithography，目前该全称已经不作为公司标识使用，公司的注册标识为ASML Holding NV，中文名称为阿斯麦中国大陆艾司摩尔中国台湾2光刻。

8、品牌型号京之果DUV光刻机 系统n257 Duv光刻机能生产最小线宽即最小特征尺寸的大小通常在100纳米左右，但是一些高端的Duv光刻机可以生产出更小的线宽，最小甚至可以到50纳米以下需要注意的是，不同的Duv光刻。

9、国内能够研发光刻机的公司是上海微电子装备公司，当前该公司最先进的光刻机产品是600系列光刻机SSX600系列光刻机最高能够实现90nm工艺制程，荷兰的ASML的高端光刻机已经能够实现5nm工艺制程，两者之间的差距相当。