1、此外，安芯光刻机的7纳米最小线宽创下了国际上同类产品的纪录，且具有完全自主研发知识产权的特点作为国内高端芯片制造装备中的代表，其应用前景广阔，有望在助力我国制造业高质量发展上发挥重要作用。

2、7纳米全世界只有荷兰能够制造顶级的光刻机，ASML更是步入5纳米的光刻机时代，在荷兰规定可以销售的光刻机中，能够支持7纳米工艺制程。

3、3纳米台湾省的台积电最先进的光刻机目前支持3纳米光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

4、EUV使用了135纳米的极紫外线激光源，比193纳米深紫外线光源的DUV光刻机能力更强纳米符号nm，即为毫微米，是长度度量单位1纳米=10的负9次方米1纳米相当于4倍原子大小，比单个细菌的尺寸还要小得多由于纳米。

5、荷兰ASML那时只是一个小厂商，并不具备单挑日本光刻机巨头的实力但在之后的14nm工艺和7nm上，佳能尼康已经在光刻机产业上举了白旗，截至2013年，ASML就已经控制80%的光刻机市场因此日本光刻机一直止步于14纳米。

6、然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图即芯片为了保证微纳米尺度下的加工，光刻机的工作环境需要超洁净环境光刻机的种类 1接触式曝光Contact Printing掩膜板直接与光刻胶层接触曝光出来的图形与。

7、诸如光刻机等科技计划被迫取消九十年代以来，光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达20年，这个技术非常关键，这直接导致ASML如此强势的关键直到二十一世纪，中国才刚刚开始启动193纳米ArF光刻机项目，足足落后ASML20多年。

8、1佳能光刻机22纳米，光刻机是制造微机电光电二极体大规模集成电路的关键设备光刻机可以分钟两种，分别是模板和图样大小一致的contactaligner，曝光时模板紧贴芯片第二是类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的。

9、目前台积电芯片已经可以做到大规模量产5nm芯片并且计划在2022年实现3nm产品的大规模量产台积电是全球最大的芯片代工制造商，其芯片代工客户包括苹果高通等许多科技公司成立于1987年，是全球第一家专业积体电路制造服务晶圆。