要想生产出高端光刻机，需要很多领域的顶级供应商相互配合，下面我就简单列举下生产高端光刻机需要的三项技术，也好让大家知道制造自己的光刻机到底有多难超高精度的数控机床虽说我最近在抖音上也看到了不少工业的机床视频。

更高，目前光刻机是全球技术含量最高最复杂的一个设备之一，一台高端光刻机由几万个零部件构成，这些零部件本身每一个技术要求都非常高，而目前有很多零部件国外是对我国进行技术封锁的，在短期之内，我国想要制造出7nm的光刻机是不太现实。

我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光。

因为我国在光刻机这一领域上的起步比较晚，制造高端光刻机的难度更大所以目前我国最先进的光刻机也仅仅还处于7nm这一阶段，和全球顶级的光刻机相比较还有很大的差距光刻机别名为曝光机，光刻机是用来制造芯片的一款。