1、当然，最可惜的还是那台完全未拆封，被抵押给银行的大陆唯一一台7nm高端光刻机其次，从人员上来说，弘芯半导体也是兵强马壮据悉，武汉弘芯半导体项目的技术总负责人乃是芯片界的大牛蒋尚义此人乃是台积电前CTO首席；月19日，长江存储终于盼来了自己的首台光刻机当天中午，这台价值7200万美元比黄金还金贵的设备，运抵了武汉天河机场这台来自全球最大的芯片设备制造商荷兰阿斯麦公司ASML的大家伙的到来，被外界看做中国芯片技；7nm只是一种工艺的代号，它和光刻机本身是不挂钩的按照一般人的理解7nm光刻机就是指能制作7nm工艺的光刻机，这个命名方式乍看起来很合理，实际上漏洞百出举个例子，在中芯国际财报中，公司透露了会将部分生产28纳米芯。

2、真的武汉9nm光刻机真的，新闻中实现9nm分辨率是真实的，但是对国内光刻机的研发贡献非常有限，因为从实验室理论实现到量产设备的研发成功相差实在太远，而影响到ASML光刻机降价更是完全不存在的。

3、为了迎接这台价值连城的光刻机，弘芯还专门为它搞了一个进场仪式，背景板上赫然写着 “ 弘芯报国圆梦中华 ” 八个大字，让人热血沸腾 资金方面，在今年武汉市发改委的 2020 年市级重大在建项目计划 红头文件中，武汉弘芯的。

4、大陆唯一一台，理论最小能支持 10nm 以内的芯片制程的光刻机，被很多人当做宝贝的东西，刚到手拍完宣传照，就抵押给银行，抵押信息一栏清清楚楚的写着，全新尚未使用，真的是触目惊心而这时候，光刻机进厂时，“弘芯；国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘；1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺1972年，武汉无线电元件三厂编写光刻掩模版的制造1977年，我国最早的光刻机GK3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机1978年，1445所在GK3的基础上开发。