因为中国需要光刻机来制造CPU，而CPU的制造离不开光刻机我国在光刻机真正发展起来是在 2002 年上海微电子装备成立以后，目前性能最好的是 90nm 光刻机，与国外还存在着很大的差距。

光刻机的先进程度直接决定了芯片的工艺水平高端光刻机不能国产化，是中国半导体产业长期的痛目前最先进的国产光刻机来自上海微电子，只能做到90nm制程，距离28nm以下的先进制程还很远光刻机的国产化是复杂的系统工程。

营业收入未公布，政府是有大量补贴的处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口2016年11月15日，由长春光机所牵头。