1、在各项政策中较为突出的是极大规模集成电路制造装备及成套工艺项目02专项，其以专项的形式组织了一批国内光刻机企业进行了一系列重点工艺和技术的攻关，有效促进了我国光刻机行业的发展技术发展技术仍在不断进步；而在此时，大后方传来坏消息，被寄予厚望的武汉弘芯，最近也爆出项目停摆资金链断裂，甚至光刻机刚一入厂即遭遇抵押的种种问题这让中国芯片的未来发展之路充满变数为什么那么庞大的系统性北斗工程我国都可以建好，而一；差距一代多光刻机，我们可以完全自主量产90纳米光刻机现在最先进的极紫外光刻机只有荷兰ASML能够供货，我们跟ASML差了三代根据公开信息，我们28纳米光刻机关键部件已经全部完成攻关。

2、光刻机有三大核心部件，EUV光源双工件台光学镜头EUV光刻机零部件高达十万个，涉及面广，28纳米以下制程的EUV光刻机至少需要3至10的攻关突破衡量指标就是数值孔径NA，一般透镜数值孔径越大，收光能力越大；光刻机的主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，在某种程度上来说，光刻工艺的决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能与功耗，越高端的芯片，所需要的光刻工艺也越先进 “工欲善其事，必先利其器”，光刻机就是芯片。

3、根据官方报道，科益虹源是国家02重大专项“准分子激光技术”成果的产业化载体，开展浸没光刻光源的关键技术攻关以及产品开发，进入国际上最高端的DUV光刻光源产品系列科益虹源攻克的ArF浸没式激光器技术，可以把国产光刻机一举。

4、对于光刻机，相信大家都不陌生，它是芯片制造过程中必不可少的设备，没有光刻机就无法生产出任何芯片，这是整个半导体行业的普遍认知之前，大多数人都没有听说过光刻机，但随着华为芯片事件的影响，让国内意识到了光刻机。

5、光刻机很难生产的，这个东西对我们来说是一个技术难关，或者说技术壁垒，我们没有这样的技术，就算有精度也不够不能达到现在实际生产需要的这个要求，这东西真正生产出来不是靠一家厂商可以搞定的一台真正高端的光刻机。