1、2018年中芯国际的芯片技术有了飞速的发展，加上砸近8亿元人民币从众多芯片公司中抢下光刻机，2019年年初，中芯国际也传来好消息，14nm芯片将在今年开始生产3月29日，中芯国际发布2018年财报，截至2018年12月31日，中；而工艺制程上 的推测是28nm的碳基芯片就可以达到7nm的硅基芯片的水平，足足拉近了两代技术，而国产成熟制程可以达到14nm也就是可以不使用极紫外光光刻机也能达到5nm的级别，论制造消耗也将降低很大的成本支出石墨烯材料；不是上海微电子14纳米光刻机是公司购入的设备，但并不是极紫外光刻机而极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。

2、而为华为公司代工生产芯片的厂家又被美帝所控制，荷兰生产光刻机的ldquo阿斯麦rdquo公司也是同样原因被美帝所控制，所以，我们太难了自己生产高端光刻机目前绝对不可能研发钱不是问题，时间是个问题技术是最大；国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘；不要老是盯着光刻机，国产芯和美国芯的真正差距还是在专利和标准上！ 许多人认为中国的芯片制造工艺不行，的确目前国产的光刻机只能达到90nm的精确度，国内最好的芯片代工厂中芯国际的工艺水平也只在28nm14nm之间但是芯片厂商完全可以。

3、目前大陆能够量产的最先进制程的芯片是14nm2019年第四季度，中芯国际就表示14nm已投入量产2021年时传出消息，中芯国际14nm的良率达到95%，已经追平台积电目前7nm也已小规模投产2020年，华虹宣布工艺达到14nm，不；之前国产的光刻机一直停留在只能制造99nm制程的芯片，这相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准现在全球最顶尖的芯片是5nm制程技术，甚至3nm制程都已经在研发设计中中了而国内最好厂商上海微电子公司曾透露，我国的28nm和14nm芯片生产的光；不过中国也不是完全做不出，经过资源整合和技术研发，中国目前已经具备量产14nm精度光刻机的技术，当然从客观上看14nm和7nm还差了一大截值得庆幸的是这一差距正在极速缩小就在2020年，中科院宣布攻克了技术难题，掌握了2；其实光刻机的作用就是制造芯片，就是这样一个不被人所熟知的设备能够占到芯片制造成本的35%以上，虽说这个机器的原理看起来很简单，但它的功能是十分重要的当芯片结束了IC设计后就要被送到晶圆代工厂进行制造封装，比较有。

4、目前国产光刻机已经达到了七纳米水平，对于国外的五纳米还处在很大的前进进步阶段；芯片想要制造出来的话，必须有光刻机的存在才可以把其图片演变成一个真实的存在目前的光刻机制造水平，大多数人是以14nm为主的建筑师而最先进的则是荷兰ASML公司所制造的7mm的工艺光刻机正式因为才缺少光刻机所以；中国现在能做14nm芯片14nm并不是停在实验室里面的研发，也不是投产，而是规模量产此外90nm光刻机5nm刻蚀机12英寸大硅片国产CPU5G芯片等也实现突破此次14nm虽然量产，但其实与国际水平还有着较大的差距，尤。

5、光刻机品牌主要有ASML，尼康，佳能，欧泰克，上海微电子装备，SUSS，ABM， Inc；现在中芯可以做到28纳米，也是现在的主流机器，订单已经排期几年了，现在14纳米的也已经成功下线了，由于良品率太低，现在正在调试，明年肯定能批量生产了，然而这还不是我国最先进光刻，清华大学的双工台4nm光刻机早就完成；国内光刻机尚无突破之前，外部购买芯片或将会是华为最好的选择根据国内相关专家介绍，28nm工艺制程的纯国产芯片今年便可实现，14nm工艺制程的纯国产芯片明年便可以实现既然是纯国产，那么势必不会受到美国核心技术的限制。

6、但是华为会加强与国内专业芯片供应链的合作，比如与中芯国际上海微电子合作，派驻研发人员一起来攻克光刻机的难关相信在国内企业的共同努力下，未来一两年内实现28nm甚至14nm光刻机完全自主还是有可能的而到了14nm这个。