1、以国内用户最为熟悉的EUV光刻机为例，众所周知，全球只有ASML一家公司拥有生产EUV光刻机的能力但很多人都不知道， ASML公司缺少日本企业帮助，也根本不可能造出EUV光刻机日本企业在EUV光刻机制造的多个环节都发挥着；当然还有一些半导体设备，比如说可达到3nm5nm精度的先进刻蚀机，原子沉积设备等等 另外ASML光刻机当中也有3项关键技术来自台湾，也就是极紫外光刻蚀模组帆宣科技提供，纳米级精度控制器上银科技，超高真空腔腔体公准精密 生物医药；不影响赚钱，但在技术上的确要比三大晶圆厂落伍很多当然在大多数人眼里，台积电和三星应该是在技术上最强的，不但包揽了ASML大多数EUV光刻机，同时两家公司都已经攻克了3nm制程的工艺，会在明年正式量产3nm甚至于在纸面。

2、当前光刻机技术最好的是荷兰的ASML公司，已经能够量产5nm制程的光刻机，甚至都拥有了3nm的技术可是因为美国的阻挠，我们根本就买不到ASML的产品，中芯国际在去年前曾经抢购到一台7nm的光刻机，钱都已经付了好多个亿。

3、其实这五名本科生是参与了芯片的设计工作，并非亲自去芯片工厂操刀，也不可能用光刻机设备，用芯片制程技术完成这款芯片的制造但以他们的年龄和水平来看，在同龄人里已经是非常优秀了而华为芯片真正被卡的地方其实就是；现在美国不仅搞芯片禁运，还禁止中国获得高端光刻机，也就是EUV这里说明一下，中国并不是完全采购不到光刻机，只是采购不到可以用在7nm5nm制程上的光刻机，在中国能够量产的14nm上，中国要多少，阿斯麦就卖多少其实。

4、美日突破3nm和2nm芯片 全球第一大芯片制造厂商，台积电，表示已经攻破3nm芯片难关，预计在2022年年末进行量产而三星还处于优化5nm技术层面，中芯国际还在苦苦等待自己的光刻机日军进攻2nm芯片，由于日本在这方面的技术也很。

5、重要的是，我们中国还有着使用EUV光刻机的现实需求，中芯国际从2020年起就在“只待”EUV光刻机了，急等着用来研发53nm工艺技术等来了的话，7纳米芯片的良品率当然就能更快达到业界标准了，然而，看来是一时半会儿；2发光原理不同 duv光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米euv激光激发等离子来发射EUV光子，光源的波长则为135纳米3光路系统不同 duv主要利用光的折射原理其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间。