一用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种有用于生产芯片的光刻机有用于封装的光刻机还有用于LED制造领域的投影光刻机用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆。

光刻机按照光源波长可以分为紫外线光刻机深紫外线光刻机极紫外线光刻机和X射线光刻机等华日激光主要生产半导体激光器光纤激光器二极管激光器等激光器产品，广泛应用于工业医疗科研等领域，并不生产光刻机。

总之，光刻机利用的是脉冲激光对芯片进行刻蚀，而不是连续激光。

光刻机原理 是利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用这就是光刻的作用，类似照相机照相照相。

还不错具有超高的精度和性能，能够满足客户的各类光刻加工要求，这些光刻机采用先进的驱动技术，使得加工速度更快精度更高，而且可以实现单片小部件的大批量生产，确保了客户货物的可靠性和质量大族激光的光刻机是一种。

smee光刻机22纳米光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上2018年11月29日，国家重大科研装备。

采用技术不同刻印方式不同等采用技术不同激光直写光刻机采用激光技术刻印，而芯片光刻机采用金属仪器刻印刻印方式不同激光直写光刻机是采用激光刻印方式直接刻印，而芯片光刻机是先刻印到芯片上后再转印到需要刻印。

光刻机的主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，在某种程度上来说，光刻工艺的决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能与功耗，越高端的芯片，所需要的光刻工艺也越先进 “工欲善其事，必先利其器”，光刻机就是芯片。

光刻机属于光电测控仪器 光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光电测控仪器常见的有光。