中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片业的前路就不艰辛了目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证但是光刻机就差多了，之前新闻；光学光电子不是光刻机光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，所以光学光电子不是光刻机。

中科院光电所已经研究出光刻分辨力达22nm的技术，结合双重曝光技术可以实现10nm芯片的制造！ 不过，光刻机需要几万个更精准的零部件镜头光源轴承等关键零部件，咱们国内的供应链还达不到水准！ 目前，全球众多国家的光刻机供应链企业对中；1 光刻机是什么东西 光刻机是一种用于制造微型电子设备的机器它利用光刻技术，将芯片设计图案转移到硅片表面上，制造微型集成电路光电器件和MEMS等微型器件2 光刻机的工作原理 光刻机的工作原理是利用紫外线光学。

光刻机研发团队

无锡影速半导体 科技 有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果，这些公式只是在低端市场占比的，高端的就是中科院光电技术研究所的技术，现在光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片，它这个22纳米。

光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影式曝光光刻机。

光电所光刻机工作原理

国内相关的机构也在重点突破光刻机技术，比如中科院光电所已经研究出光刻分辨力达22nm的技术，结合双重曝光技术可以实现10nm芯片的制造 不过光刻技术攻克后，要实现光刻机量产还有不少的时间特别是需要几万个零部件要达到高精准度的高端。

不会，如果华为真的早期做光刻机，不要说比现在更成功，怕是早就倒下了！ 1华为做手机源是通信业务的延伸 首先你得明白一点，华为是一家通信企业，其最初的业务一直围绕着通信领域后续华为能将自己的业务延伸到手机等消费终端以及对。