摘要光刻机被誉为“现代光学工业之花”，号称比研制原子弹还困难全球只有3个国家能造在全球高端光刻机市场，荷兰达到全球领先水平，除了荷兰，日本中国也可以制造光刻机但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”，至今；中国光刻机历程 1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平而那时，光。

而除了镜头之外，光刻机最令我国头疼的点还在于其中有一部分零件无法机器生产，因为它们对精度的要求相当高，必须由很多工程师耗费大量的时间去手工打磨这使得我国的光刻机研制备受阻滞光刻机的核心部件 1光源 光刻机。

光刻机研制失败

中国高端光刻机什么时候能研制出来一中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首。

中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心。

提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的。

光刻机怎么制造芯片下面来了解下一光刻机的种类有哪些1接触式曝光ContactPrinting掩膜板直接与光刻胶层接触曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单接触式，根据施加力量的方式不同又分为软接。

光刻机研制成功

中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努。