随后又在8月发布了跟进报道，确认了7nm技术节点属实，并且工艺和台积电的7nm工艺有相似性值得一提的是中芯的7nm制程使用的是DUV光刻机深紫外光7nm也是DUV能维持高良率的极限尽管理论上用多重曝光multiple；但是事实却并非如此，据后来该论文的通讯作者刘前在接受媒体采访时表示，中科院研究的5nm光刻制备技术针对的是光掩膜的生产，而不是光刻机用到的极紫外光也就是说，中科院发表论文不等同于国产光刻机技术达到了5nm水平。

EUV极紫外光刻机的够买，需要通过非常严格的审查，并不是有个海外身份和足够的资金，就可以购买的任何身份和资金，在严格EUV利益相关方的审查之下，都无可遁形因此，找海外代理人购买EUV极紫外光刻机，是一种得不偿失。

紫外光刻机波长和波长

1、因为对于半导体代工企业说，光刻机是关键中的关键如果没有光刻机，那么就没办法制造出高端芯片所以就有了ldquo得光刻机者得天下rdquo的说法我们对华为遭受到美国的芯片打压的消息，应该都不陌生，虽然国内半导体。

2、随着电子业的飞速发展，对作为电子元器件基础的印制板的需求量及其加工精度的要求越来越高紫外线光刻机是印制板制造工艺中的重要设备传统光刻机的玻璃迈拉晒架在生产过程中需要人工赶气，迈拉膜需要经常更换由于冷却。

3、目前，世界上最先进的光刻机已经能够加工13纳米线条而我们人类的头发丝直径大约是50~70微米，也就是说，光刻可以刻画出只有头发丝直径15000的线条前面提到的荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻。

4、并且卖给中国公司的稍过时的光刻机也有条款不准用于制造像龙心这类自主研发的CPU芯片美国日本在这个领域都力不从心，成都太给力了在技术方面，ASML光刻机可以使用波长为135纳米的极紫外光EUV，实现14纳米10纳米。

5、光刻机采用激光将图形刻印在半导体上，但光是电磁波，不同的光线具有不同的波长如果需要刻印的图形非常微小，而采用的光线波长较大，则刻不出想要的图形就像你不能用拖把书写痕迹粗大在田字格本上写毛笔字笔划细小。

中国紫外光刻机龙头企业

我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光。