1、尽管国产光刻机精度只有90nm，非常落后，但还是很有存在的必要不管是从用户的角度，还是产业的角度，抑或国家的层面，90nm的国产光刻机，都必须存在国产光刻机制程精度不高，不是取消或者淘汰国产光刻机的理由如果我们。

2、国产光刻机可以达到55纳米目前国产光刻机最先进的设备在分辨率上达到了55nm，由于ArFDry光刻机的极限工艺为55nm，因此国产光刻机最多只能够支撑55nm工艺，无法实现更高的工艺水平虽然目前国内光刻机的分辨率和工艺水平还不。

3、而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车相关介绍。

4、随着现在科技的不断发展，人们在日常生活中的方方面面都已经有了很高的要求，而且人们对高科技的使用也变的越来越多了最近比较许多人都在讨论光刻机这一项高科技，但是光刻机这一项技术在我国又恰恰是处于弱势的，因为我国。

5、可能大家的目光被台积电和ASML阿斯麦吸引住了，以为芯片不用5nm工艺制程制造，都不好意思说自己是芯片，没有极紫外EUV光刻机，都不能说自己是芯片制造大厂90nm国产光刻机是目前我国最先进的光刻机，属于国家重大。

6、倚天710处理器用的是国产的光刻机，因为在2021年10月19号的时候，阿里巴巴旗下半导体公司平头哥发布自研云芯片倚天710，称全部是采用国产光刻机制成的一款5nm制程的芯片所以倚天710处理器用的是国产的光刻机光刻机又名。

7、2020年11月，上海浦东金融局发布新闻稿显示，上海微电子预计将于2022年交付首台28nm工艺国产沉浸式光刻机，国产光刻机将从此前的90nm制程一举突破到28nm制程这一消息振奋了整个中国半导体产业界虽然官方并未确认，但业内。

8、制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计例如Mycro NQ光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所。

9、我们都知道光刻机，它是用来制造半导体芯片的设备，没有光刻机，我们是无法制造出半导体芯片的目前光刻机设备一直被国外荷兰的阿迈斯ASML公司所垄断，世界上最先进的半导体制程，基本上使用的都是阿迈斯的光刻机在国内光刻。