在国内，ASML等工厂先进的外国光刻机还未被完全引进，因此最精密的国产光刻机就显得非常重要目前，最精密的国产光刻机可以达到8纳米，比上一代光刻机技术进步明显但是与国外的水平相比，仍有一定差距。

截至2023年，中国光刻机设备的最新水平如下1上海微电子公司已经可以实现90nm工艺芯片的光刻机生产，同时，该公司也正在着手解决生产28nm工艺芯片光刻机的问题，预计在成品率上还有一定的提升空间2清华大学SSMBEUV方案。

当时，中国没有计算机没有离心机没有数据资料，但是在美国造出原子弹接近9年后，中国拥有了属于自己的原子弹现在，中国打算大力研制光刻机，这也是近两年的事情目前，我国最顶尖的光刻机水平与国际社会最顶尖的水平。

那么目前有哪些国家可以制造出光刻机呢目前在制造光刻机领域中，荷兰已经达到了领先全球的水平，荷兰的ASML公司占据了全球市场份额的80%除了荷兰以外，日本和中国也可以制造出光刻机日本代表的企业是佳能和尼康，中国的。

中国光刻机历程 1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平而那时，光。

但是国外请来的高薪工程师对技术把关非常严格，一般情况下是不会将技术透露给我国工程师，这也导致我国芯片水平局限于当前尴尬的地步第二点便是资金不够这里所说的资金不够，并不是所说的投资不够，而是光刻机芯片这一。

不仅要达到美国光源和德国镜头的高水平，还要有很多精密的仪器光刻机任重道远这些精密仪器的背后，也需要更多的人才研究技术时间投入和技术积累，也需要大量的资金我相信中国会克服这个困难，不再受其他国家的限制。

但是纵观全球芯片公司，有这个技术和设备的只有三星公司了它既可以自主研发又可以制造芯片，基本上垄断了行业芯片但是反观中国目前的光刻机仍不能达到制作高端芯片的要求，技术还很落后一如今国内光刻机能达到多少纳米的。