其中荷兰公司ASML为下一代EUV光刻系列的唯一供应商，在半导体价值链中具有强大地位，2021年前三季度出货31台，其TWINSCAN系列是世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型全球绝大多数半导体生产厂商，都向。

长期以来，由于光刻机的特殊性，中国网民甚至将其视为半导体行业的生命线但其实光刻机只是芯片生产线的一部分还是一个制作环节芯片的生产至少需要七个主要过程，即扩散光刻蚀刻离子注入薄膜生长抛光和金属化。

中芯的7nm制程使用的是DUV光刻机深紫外光7nm也是DUV能维持高良率的极限尽管理论上用多重曝光multiplepatterning可以做5nm工艺，但是良率会很低，无法盈利所以台积电的5nm技术节点N5，就开始用EUV光刻机。

与其希望对方如何行事，不如自己努力前行，把握好核心技术的研发，走适合自己的路吧最后普及一下EUV光刻机和DUV光刻机光谱大致分为红外线可见光和紫外线X射线伽马射线等紫外线UV与X射线之间有深紫外线DUN。

NIL光刻机相对于EUV光刻机来说，光源的成本更低，不需要使用昂贵的EUV激光源同时，NIL光刻机使用一些DUV或者更成熟的光源结合纳米涂层的方法，可以实现一至两纳米制程的量产，具有较高的制程精度和生产效率尽管NIL光刻。

前面提到的荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer。

一般来讲，光刻机可粗略分成掩膜式步进式Stepper和扫描式Scanner和直写式无掩膜光刻机两种直写式光刻机目前被用于半导体IC生物芯片光电芯片及其他小规模生产及科研对于32纳米或以下技术，EUV光掩膜过于昂贵，直写。

反应腔室和真空气路等组成3售价 ASML的EUV光刻机单台售价很高，蚀刻机的售价要低很多了4工艺 刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上5难度 光刻机的难度和精度大于刻蚀机。