1、制作芯片的机器主要包括以下几种光刻机光刻机是制作芯片最关键的设备之一，它利用光刻技术将芯片设计图案转移到硅片上离子注入机离子注入机是将掺杂原子注入硅片的设备，通过掺杂可以改变硅片的电性质，实现电路的控制。

2、不是根据查询机械器材官网显示，高端晶圆激光切割设备和光刻机是半导体制造过程中的两种不同设备。

3、国产芯片水平只能实现90纳米从芯片制造环节看，光刻机蚀刻机晶圆光刻胶等设备和材料占比很大其中光刻机设备，目前上海微电子是90纳米高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口，其中ArF光刻胶几乎为零国产因此。

4、光刻机发出的光用于通过带有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光光刻电阻的特性在看到光后会发生变化，从而使掩模中的图形可以复制到薄片上，使薄片具有电子电路图的功能这是光刻的功能，类似于照相机摄影相机拍摄的照片。

5、其中涉及的材料有铜材硫酸十种有色金属等精细化工厂和光刻机检测设备等设备供应商 在原料方面，铜材硫酸十种有色金属是制造半导体材料产品的重要原材料，供应呈现相对稳定的趋势，受价格影响因素较小，因此上游精细化工厂在整个产。

6、光刻机就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来简单来说芯片设计人员设计的线路与功能区“印进”晶圆之中，类似照相机照相照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。

7、duv和euv光刻机区别光路系统不同发光原理不同制造精度不同1光路系统不同DUV光路主要利用光的折射原理其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水，使得193nm的光波等效至134nm而干法光刻机则。

8、中国国产芯片能达到90纳米国产芯片水平只能实现90纳米从芯片制造环节看，光刻机蚀刻机晶圆光刻胶等设备和材料占比很大其中光刻机设备，目前上海微电子是90纳米高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口，其中ArF。

9、曝光温度升高光刻机是利用紫外线除去晶圆表面的保护膜的机器，制造芯片的核心装备，充以液体后，可以降低其机器的质量的原因是曝光温度升高注入液体后，会使机器的曝光温度升高，从而影响到芯片的质量。

10、台积电占据全球晶圆代工的大半壁江山三星英特尔格罗方德包括国内的中芯国际都是ASML的客户，其中三星英特尔格罗方德还是ASML的股东，三大巨头转投其他家的可能不大光刻机之所以重要，在于它是实现摩尔定律的。