1光刻机可以分为用于生产芯片用于封装和用于LED制造按照光源和发展前后，依次可分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV，光源的波长影光刻机的工艺光刻机可分为接触式光刻直写式光刻投影式。

CDR盘片上除了原有CD盘片的合成塑胶层Poly carbonate与保护漆层UVLacquer外，原来用来反射的铝层改用24K的黄金层纯银材质也可以，另外再加上有机染料层organic dye与预先做好的轨道凹槽pregroove有的CD。

对于光刻机而言，最核心的技术就是光源，光刻机按光源技术进步次序可分为紫外光UV深紫外光DUV极紫外光EUV三大类当前全球能够制造EUV光刻机的企业只有荷兰ASML一家企业，日本的佳能尼康和中国上海微电子。

直写式光刻机目前被用于半导体IC生物芯片光电芯片及其他小规模生产及科研对于32纳米或以下技术，EUV光掩膜过于昂贵，直写式具独特优势，但直写式光刻机应用的主要瓶颈是产能低EUV是UV紫外线中波段处于10nm~100nm。

这种投影要求精度非常高，甚至一点点的震动都可能照成不可挽回的次品出现因此，光刻机在光刻时需要在真空条件下进行同时，光刻的光源要求十分苛刻光刻机分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV按。