替代光刻机的技术有纳米压印光刻NIL电子束光刻机EBL自组装光刻1纳米压印光刻NIL先在模具上刻上纳米电路的图案，再把这个图压在硅片的感光材料上，同时用紫外线照射，就能完成转印，这种方式可以达；半导体行业技术高进步快，一代产品需要一代工艺，而一代工艺需要一代设备IC制造设备主要分为光刻机刻蚀机薄膜设备扩散离子注入设备湿法设备过程检测等六大类，其中光刻机约占总体设备销售额的18%，刻蚀机约占。

网传比亚迪要取代富士康，请问比亚迪能造7nm的芯片，能买到7nm的光刻机吗在代工领域，比亚迪虽然也是强大，但确实是无法与富士康相提并论或者是取代但在芯片设计制造领域，这两家目前都算不上特别强，也谈不上谁取代谁的；屏幕芯片一般指的是LCD或者OLED显示屏的驱动芯片，显示驱动芯片顾名思义就是显示器成像所需要的芯片，内部集成了功率晶体管显示调节器等，负责驱动显示面板控制电流电压等屏幕驱动芯片也是由光刻机制造晶圆并进行加工的。

而英特尔使用DUV光刻机亦能制程16nm性能达到10nm工艺的芯片高通也是集中全力设计发展5nm的骁龙芯片但美国芯片制造没有与设计同步得到相应提升，仍须依赖台积电三星等代工企业生产才能完成高端芯片的制造我国华为芯片设计。

光刻机替代概念龙头股

5nm激光光刻技术，预示着我们即将能取代ASML，但是5nm激光光刻技术还未安全成熟，因此还是要用ASML技术。

靶材的江丰电子光刻机领域的上海微电子薄膜沉积设备的北方华创等离子刻蚀的中微半导体单晶硅生长炉的晶盛机电以及自动清洗设备的盛美半导体等等封测领域国内落后不太多，主要的上市公司是长川 科技 长电 科技 杨杰。

比如说日本和美国自己就能研发出来14纳米级别的光刻机，是国家支持拨款才能做到的，而且其他 科技 公司全力配合的情况下，这个需要政府牵头去做，富士康的级别根本达不到差远了，而比亚迪其实也根本达不到，也差远了呢，光刻机能随便让一个代。

电火花加工机床当然不能取代光刻机，很多光刻机的功能，电火花加工机床都完成不了。