是90纳米查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付尽管国产光刻机仍；5nm芯片无需光刻机中国科技公司已申请制造专利9月15日，一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布该发明涉及芯片设计及制造这项发明的亮点在于，不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻过程，直接蚀刻就可以制造5纳米芯片此专利一经公布，便引起了大量网友的关注未。

现在中国微电子5nm刻蚀机已开始成为台积电5nm的生产线提供设备支持，这意味着家用半导体设备正在不断改进，而台积电的认可足以证明ChinaMicro半导体的实力，现在刻蚀机取得了重大进展，国产光刻机会远远落后吗相信在许多国内公司的努力下，这两个国之重器将在未来达到新的高度；光刻机目前一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷兰的公司最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本，而在2017年之后，ASML联合台积电推出了光源浸没式系统开始，将日本企业甩开距离，从此稳坐头把交椅的宝座技术一直处于垄断地位一台顶级的光刻机需要各种。

目前台积电芯片已经可以做到大规模量产5nm芯片并且计划在2022年实现3nm产品的大规模量产台积电是全球最大的芯片代工制造商，其芯片代工客户包括苹果高通等许多科技公司成立于1987年，是全球第一家专业积体电路制造服务晶圆代工foundry企业，总部与主要工厂位于中国台湾的新竹市科学园区。

5纳米光刻机是什么意思

但是反观中国目前的光刻机仍不能达到制作高端芯片的要求，技术还很落后一如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3纳米工艺。

光刻机刻制芯片，根据芯片的设计需求，可以刻制少到几层，多到几十层甚至上百层通常情况下，28nm的IC最多可使用50层光罩，14nm10nm的IC使用60层光罩，7nm有80层光罩，5nm则达到100层光罩台积电在7nm芯片上中的12层使用EUV，68层都使用DUV在5nm节点，台积电将EUV 用于其中22层，其余78 层则。

官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的芯片即将上市不过根据相关信息，预计中国首款采用28nm工艺的国产浸没式光刻机即将交付虽然国产光刻机和ASML的EUV光刻机。

5纳米光刻机研制成功了吗

国产光刻机90nm蚀刻机达到了5nm水平，光刻机仍然是处于90nm水平，2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片但是这仅限于实验室阶段，实现商用还是需要一定时间光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光。

请注意该报道的标题“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收”也就是22nm的光刻机，已经是重大突破22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权”有关报道。