光刻机发出的光用于通过带有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光光刻电阻的特性在看到光后会发生变化，从而使掩模中的图形可以复制到薄片上，使薄片具有电子电路图的功能这是光刻的功能，类似于照相机摄影相机拍摄的照片；蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备，不论从功能还是结构上来说都是天差地别，光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备，芯片的制程是由光刻机决定的，而不是蚀刻机具体如下1工作原理 如果把制造芯片。

光刻机的用处

其实形象点说芯片制造就如同盖房子，需要一层层地进行堆叠，才能把房子做出来，而要想有一个好房子，那么平稳的地基是必不可少的，而它就是晶圆而光刻机加工就是要将芯片制作所用的线路和功能都做出来，不过。

纳米压印光刻机的功能纳米压印光刻机是一种专门用于生产微小电路的高精度光刻机它可以在极短的时间内将微小的图案投射到硅片上，从而制造出各种微型电子元件芯片和半导体器件等这种设备具有高精度高稳定性和高可靠。

光刻机功能安全

极紫外光刻是一种使用极紫外波长的下一代光刻技术，其波长为135纳米，预计将于2020年得到广泛应用几乎所有的光学材料对135nm波长的极紫外光都有很强的吸收，因此，EUV光刻机的光学系统只有使用反光镜。

芯片的用途手机高铁汽车电网家用电器医疗设备各种自动化设备等芯片的功能执行运算，处理各种任务，输出数据和指令芯片这么厉害，怎么做出来的使用的设备是本文介绍的重要机器光刻机现在很多人说。

功能差异前道光刻机的主要目标是实现高精度高稳定性的图案转移它需要具备超高的精度和稳定性，以确保图案在转移到基材上的过程中不会失真或者出现偏差为此，前道光刻机通常采用先进的光学系统和精密的机械结构后道。

光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路，当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒闪存颗粒等等 光刻机是制造微机电光电二极体大规模集成电路的关键设备可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的。

光刻机成功的原因有以下几点技术进步应用广泛产业链完善成本降低1技术进步随着科技的不断进步，光刻机的技术也得到了不断的改进和完善现代光刻机采用了更先进的光学元件和精密控制系统，使得其制造精度和速度。