1、文无第一，武无第二老美当然要千方百计给我们添堵，只有将我们搞垮，它才心安关系到国家发展关键困难时，举国之力制造光刻机不存在对他国来说是很恐怖的存在这又不是毁灭人类的超级武器只能让他国明白对中国的。

2、光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司；而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车二国内；1985年，一台步进式光刻机样机研制成功经鉴定，它达到了美国4800 DSW的水平如果当时的数据没有出入，那应该是中国第一台分布式光刻机与国外1978年美国的差距相比，时差应为7年回到问题上来，如果成立于1987年的；光电所微细加工光学技术国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机，结合多重曝光技术，可以用于制备10纳米以下的信息器件这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革，也将加快推进工业40。

3、我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光；中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心。

4、中芯国际是纯商业性集成电路代工厂，提供 035微米到14纳米制程工艺设计和制造服务中芯国际自创建以来，已经成长为中国大陆规模最大技术水准最高世界排名第四的晶片代工企业光刻机的种类 1接触式曝光Contact。

5、第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了12亿美元的定金请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。