光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影。

光刻机是制造微机电光电二极体大规模集成电路的关键设备光刻机可以分钟两种，分别是模板和图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴芯片第二是类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样曝光机在晶圆。

闪存颗粒等等 光刻机是制造微机电光电二极体大规模集成电路的关键设备可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴芯片以及利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。

刻蚀相对光刻要容易光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案或者没有图案的部分，留下剩余的部分“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆或者叫硅片上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着。