功能差异前道光刻机的主要目标是实现高精度高稳定性的图案转移它需要具备超高的精度和稳定性，以确保图案在转移到基材上的过程中不会失真或者出现偏差为此，前道光刻机通常采用先进的光学系统和精密的机械结构后道。

只用于光刻机根据查询中国工业网显示，浸液系统是浸没式光刻机的四大核心部件之一，只能用于光刻机浸液系统是光刻机突破干式曝光物理极限，向更小技术节点发展的标志性技术，国际上仅荷兰ASML和日本Nikon拥有浸液系统技术。

光刻机成功的原因有以下几点技术进步应用广泛产业链完善成本降低1技术进步随着科技的不断进步，光刻机的技术也得到了不断的改进和完善现代光刻机采用了更先进的光学元件和精密控制系统，使得其制造精度和速度。

我们国内确实是既难买又难造高端的光刻机，包括7纳米的和5纳米的，当前就是在这最后的一个端上陷入了现实的两难处境，短期内不可能脱离，是个长期性的现实 只要成功研发出了高端的制造技术，难造就会变成易造了只要即将成功制造出高端。

需要经过光束矫正器能量控制器光束形状设置遮光器等造成频率稳定能量均匀的光源还有透镜模组，要保证光通过物镜不变形，这都是极其复杂的系统工程这些无疑给生产和制造带来巨大的阻力再者，光刻机对准系统需要具有。