用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常；对于荷兰的这家公司来说，中国能够提供的广大市场，中国能够提升自己的技术，这是一件双赢的事，但是美国不乐意了美国又使出它低劣的伎俩，威逼利诱荷兰政府和这家公司，不让他们把紫外光刻机卖给我们双方就此周旋了很久。

这样的精度要求，全世界只有德国的蔡司公司能制造，连日本尼康佳能这样的透镜大厂也做不出来，更不用说中国的公司了光源技术 另外，光刻机中的光源也是一项难以攻克的技术难关，对于深紫外光DUV刻，使用的光源波长是；还必须考虑通过每个镜头和光路的光的折射损失，并且可用于光刻的能量非常小中国能否自己造一台光刻机光刻机在全世界非常稀有，发达国家为了阻止中国发展，禁止出售光刻机到我们国家但是，近几年我国的科学家和政府都在。

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1、阿斯麦耗费了将近10年时间来开发它，生产的尖端芯片可以用于智能电子产品人工智能电脑和5G设备芯片巨头如英特尔三星和台积电都是阿斯麦的客户，而我国芯片厂商中芯国际也早在2018年初就订购了一台极紫外光刻机，但迫于美国。

2、其实形象点说芯片制造就如同盖房子，需要一层层地进行堆叠，才能把房子做出来，而要想。

3、为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展2事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况下，我们很难获得国际市场的支持3ASML的成功是因为其技术的。

4、就像你不能用拖把书写痕迹粗大在田字格本上写毛笔字笔划细小现在的芯片集成度越来越高，最高端的芯片工艺已经到了2nm级别而可见光波长在780nm红～400nm紫之间，刻不出小于400nm的图形紫外线波长在。

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并且卖给中国公司的稍过时的光刻机也有条款不准用于制造像龙心这类自主研发的CPU芯片美国日本在这个领域都力不从心，成都太给力了在技术方面，ASML光刻机可以使用波长为135纳米的极紫外光EUV，实现14纳米10纳米。