但是纵观全球芯片公司，有这个技术和设备的只有三星公司了它既可以自主研发又可以制造芯片，基本上垄断了行业芯片但是反观中国目前的光刻机仍不能达到制作高端芯片的要求，技术还很落后一如今国内光刻机能达到多少纳米的。

3纳米台湾省的台积电最先进的光刻机目前支持3纳米光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

通过光刻胶印制的电路可以使阳文形式的电路，也可以是阴文形式的电路光刻机目前一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷兰的公司最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本，而在。

90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm。

发布会上，上海市经济信息化工作党委副书记市经济信息化委主任吴金城透露，在集成电路领域，上海企业已经实现14纳米先进工艺规模量产，90纳米光刻机5纳米刻蚀机12英寸大硅片国产CPU5G芯片等实现突破全市集成电路。

波兰不生产光刻机，生产光刻机的是荷兰全球唯一能制造高端euv光刻机的是荷兰阿斯麦尔公司，euv光刻机是采用135纳米极紫外光光源，为第五代光刻机，与第四代光刻机光源的193纳米深紫外光光源，技术上提升非常巨大，该。

90纳米光刻机在国内市场已经占据了很大的份额，这是国产光刻机取得的进步但在代表光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微封装可以生产90nm工艺的光刻机，这是国内光刻机的最高水平，而ASML现在已经量产了7nm工艺。

毫无疑问，180nm还处于比较落后的状态，这也是国产芯片迟迟无法崛起的主要原因光刻技术作为光刻机的核心动力，我们国内肯定不会轻易放弃，现在是180nm不代表以后也是180nm，现在无法突破到5nm也不代表以后突破不了所以说。

我国的光刻机处于世界的先进水平，但没有达到顶尖水平我国的光刻机发展已经近到了28纳米的光刻机，可以满足日常的射频芯片，蓝牙芯片以及其他电器中的一些芯片的要求和标准但是相较于芬兰等欧美国家的光刻机芯片，已经。