1、所以，以前中国的EUV光刻技术不是没有实现，而是技术水平不达标，用于批量生产光刻机效率和良率无法和ASML的产品竞争还有视场小的问题，制造不了大芯片，略过不提 但是这样凑合出来的只具有较低生产效率和良率的光刻机能解决华为没有。

2、中国的光刻机发展现状如何国内唯一一台7nm光刻机位于武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备仅能实现14nm芯片量产我国最先进的光刻机并非中芯国际所使用的设备，而是武汉弘芯在2019年12月购得的7nm光刻机，当时还。

3、用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常。

4、国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘。

5、中国日本荷兰在能够制造机器的这几家公司中，尤其以荷兰ASML技术最为先进价格也最为高昂光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物目前在全球45纳米以下高端光刻机市场当中，荷兰ASML市场占有率达到80%。

6、作为目前全球光刻技术的主要开发者，中国的光刻机发展一直备受瞩目过去，中国的光刻机只能达到50纳米的生产精度，然而近年来，把握机遇，大力发展技术，中国光刻机顺利实现了25纳米和18纳米的生产精度，成功将产业链推向更高。

7、并且卖给中国公司的稍过时的光刻机也有条款不准用于制造像龙心这类自主研发的CPU芯片美国日本在这个领域都力不从心，成都太给力了在技术方面，ASML光刻机可以使用波长为135纳米的极紫外光EUV，实现14纳米10纳米。

8、假的，别听其他人瞎说。