但是华为会加强与国内专业芯片供应链的合作，比如与中芯国际上海微电子合作，派驻研发人员一起来攻克光刻机的难关相信在国内企业的共同努力下，未来一两年内实现28nm甚至14nm光刻机完全自主还是有可能的而到了14nm这个。

光刻机最先进的是90纳米纳米科技现在已经包括纳米生物学纳米电子学纳米材料学纳米机械学纳米化学等学科从包括微电子等在内的微米科技到纳米科技，人类正越来越向微观世界深入，人们认识改造微观世界的水平提高到。

虽然我们也有国产光刻机，但是就算是 目前做得最好的上海微电子，目前也止步于90nm光刻机 上海微电子在日前宣布两年内可以下线28nm国产光刻机因此有不少网友表示，难道华为一个搞芯片设计的，两年时间就能突破光刻机。

3光路系统不同 duv主要利用光的折射原理其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水，使得193nm的光波等效至134nm光刻机简介 光刻机lithography又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是。

我国的上海微电子有限公司研发和生产光刻机，但是差距有点儿大，华为目前没有研制自己的光刻机下文具体说一说 1我国的光刻机 ASML的高端光刻机为7nm光刻机，并且7nm EUV光刻机只有ASML可以生产，据说ASML已经准备生产5nm的光刻。

025umi线光刻机是指使用i线水银灯波长365nm光源的半导体光刻机，采用的光波长为365纳米，它可用于制造存储器处理器和控制器等晶圆，i线光刻机线宽能到025um，最小是015um。

国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘。

一旦这些5nm的光刻机开始售卖，到时候对手机芯片来说将会是又一场革命中端光刻机市场ASML尼康佳能相互竞争其实说竞争有点过了，按照目前的情况来看是ASML占据大优势，尼康和佳能陪跑日本的尼康和佳能其实在十年前还是。