不好用，上海微电子最先进的SSA600系列光刻机只能用于90nm制程的芯片制造并且，上海微电子的光刻机的实际出货情况也并不理想；这让很多网友感到不解不是所有的光刻机都是从荷兰买的，为什么强大的三星做不到台积电从实力上看，三星的硬件设计一直是世界上最尖端的，其财力也远强于台积电，所没有理由做不好这个简单的“OEM”，但事实上是这样的。

更重要的是在芯片制作过程中，DVA光刻机是一个很关键的仪器设备，这个设备还没有完全的实现国产但是我国的科研人员也真正努力地研发属于中国自己的DVA光刻机器如果这个机器真正的实现国产了的话，中国芯片就离纯国产更；不要老是盯着光刻机，国产芯和美国芯的真正差距还是在专利和标准上！ 许多人认为中国的芯片制造工艺不行，的确目前国产的光刻机只能达到90nm的精确度，国内最好的芯片代工厂中芯国际的工艺水平也只在28nm14nm之间但是芯片厂商完全可以。

ASML的EUV光刻机1使用的光源是第四种，使用高能二氧化碳激光轰击液态金属锡激发极紫外光2可产生高功率光，无碎屑污染，可稳定出光。

好的光刻机多少钱一台

使用阿斯麦的“大杀器”，将紫外或极紫外光通过蔡司的镜片，照在前面准备好的集成电路掩膜版上，将设计师绘制好的“电路图”曝光光刻在晶圆上见动图上述动图的工作切片层级关系如下光刻机照射到部分的。

光刻机知名品牌

TSMC现在已经实现了5 nm工艺标准的量产，而最好的芯片制造公司SMIC刚刚完成了14 nm的量产用于制造最先进工艺芯片的光刻机必须从荷兰ASML公司进口，但是我现在买不到，由于某种原因导致的，所以是需要在最好的光刻机生产商。